The role of particle energy and pulsed particle flux in physical vapor deposition and pulsed–laser deposition
نویسندگان
چکیده
منابع مشابه
The role of particle energy and pulsed particle flux in physical vapor deposition and pulsed–laser deposition
Surface morphology evolution of thin films generated by physical and pulsed-laser deposition depending on the incident particle energy and the pulse rate is investigated using a continuum growth model. The model includes curvature-induced surface diffusion, the Schwoebel barrier and surface atom displacement as main surface processes. The numerical solution of the model is in very good agreemen...
متن کاملthe role of russia in transmission of energy from central asia and caucuses to european union
پس ازفروپاشی شوروی،رشد منابع نفت و گاز، آسیای میانه و قفقاز را در یک بازی ژئوپلتیکی انرژی قرار داده است. با در نظر گرفتن این منابع هیدروکربنی، این منطقه به یک میدانجنگ و رقابت تجاری برای بازی های ژئوپلتیکی قدرت های بزرگ جهانی تبدیل شده است. روسیه منطقه را به عنوان حیات خلوت خود تلقی نموده و علاقمند به حفظ حضورش می باشد تا همانند گذشته گاز طبیعی را به وسیله خط لوله مرکزی دریافت و به عنوان یک واس...
15 صفحه اولeffect of sub-grid scales on large eddy simulation of particle deposition in a turbulent channel flow
چکیده ندارد.
15 صفحه اولthe analysis of the role of the speech acts theory in translating and dubbing hollywood films
از محوری ترین اثراتی که یک فیلم سینمایی ایجاد می کند دیالوگ هایی است که هنرپیش گان فیلم میگویند. به زعم یک فیلم ساز, یک شیوه متأثر نمودن مخاطب از اثر منظوره نیروی گفتارهای گوینده, مثل نیروی عاطفی, ترس آور, غم انگیز, هیجان انگیز و غیره, است. این مطالعه به بررسی این مسأله مبادرت کرده است که آیا نیروی فراگفتاری هنرپیش گان به مثابه ی اعمال گفتاری در پنج فیلم هالیوودی در نسخه های دوبله شده باز تولید...
15 صفحه اولFlux and energy analysis of species in hollow cathode magnetron ionized physical vapor deposition of copper.
To meet the stringent requirements of interconnect metallization for sub-32 nm technologies, an unprecedented level of flux and energy control of film forming species has become necessary to further advance ionized physical vapor deposition technology. Such technology development mandates improvements in methods to quantify the metal ion fraction, the gas∕metal ion ratio, and the associated ion...
متن کاملذخیره در منابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ژورنال
عنوان ژورنال: Applied Physics Letters
سال: 1999
ISSN: 0003-6951,1077-3118
DOI: 10.1063/1.125546